ACTUALIZACIÓN DE LA INSTRUMENTACIÓN DE LA PLANTA DE TRATAMIENTO DE AGUA POLISHING Y MAKE-UP PARA LA PLANTA CCHEN-LA REINA

Abstract

El presente trabajo tiene por objetivo proponer una actualización de los instrumentos de conductividad y pH de la planta de agua Polishing que permita evaluar la calidad del agua antes y después del tratamiento. Por otro lado, para la planta de agua Make-up se busca proponer un sistema de control de los niveles de los estanques que almacenan el agua durante el proceso y además la instalación de un sensor de conductividad al final de la línea de tratamiento para conocer la calidad del agua tratada y así, el estado de las resinas de intercambio iónico. Los instrumentos determinados para llevar a cabo el proyecto consisten en tres sensores de conductividad, dos sensores de pH, tres transmisores de nivel, un PLC, un panel HMI y los controladores y accesorios respectivos a cada instrumento. En la planta de agua Polishing se propone un sensor de conductividad y pH en la línea que retira agua de la piscina del RECH-1 y otros sensores de conductividad y pH a la salida de las columnas de intercambio iónico donde se juntan las líneas de cada una. En el caso de la planta de agua Make-up, se propone un sensor de conductividad a la salida de las columnas de intercambio iónico en una línea de toma de muestras previa a la llegada del agua tratada al estanque elevado. Además, se propone la instalación de transmisores de nivel en base a la presión hidrostática en los estanques de agua decantada, estanque de agua filtrada y estanque elevado, cada uno enviará información al PLC para que realice una acción según como se encuentre el nivel de agua en dicho estanque.