Browsing by Author "Rojas Soto, Diego Alberto"
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Thesis Estudio de la adsorción aleatoria de moléculas inhibidoras en superficies amorfas de óxidos metálicos(Universidad Técnica Federico Santa María, 2026-06) Rojas Soto, Diego Alberto; Lodeiro Moraga, Lucas (Universidad de Chile); Departamento de Ingeniería Química y Ambiental; Sandoval Salas, Tania ElizabethDebido a la continua miniaturización en la industria de semiconductores, se exigen técnicas de manufactura cada vez más precisas. Como alternativa a la fotolitografía, el area-selective atomic layer deposition (AS-ALD) ha surgido como una técnica capaz de depositar material sobre superficies con control a nivel de ångström. La selectividad de este proceso se basa en el uso de moléculas inhibidoras pequeñas (SMIs) en zonas de no crecimiento para bloquear la adsorción de precursores. Las superficies involucradas pueden ser cristalinas, con un orden regular de sitios activos, o amorfas, que carecen de este orden y son más comunes en sistemas reales. El empaquetamiento de inhibidores se ha estudiado previamente mediante simulaciones de adsorción secuencial aleatoria (RSA), aunque estos estudios se han limitado a superficies cristalinas. Por ende, el objetivo principal de este trabajo es evaluar el efecto de la amorfización de superficies de óxidos metálicos sobre la cobertura y densidad superficial de SMIs mediante simulaciones RSA. Para ello, se generaron superficies amorfas a partir de una superficie cristalina hexagonal de Al2O3, desplazando aleatoriamente sus sitios activos mediante el parámetro desplazamiento permitido (DP). Se construyeron cinco superficies con valores de DP de 0.33, 0.67, 1.00, 1.33 y 1.67 Å, caracterizadas mediante teselación de Voronoi. Posteriormente, se realizaron simulaciones RSA usando representaciones bidimensionales de inhibidores: toy models circulares con radios entre 1 y 10 Å, y footprints de HAc, Hacac y Hthd, obteniéndose datos de cobertura y densidad superficial. Los resultados muestran que, (...).
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